P+F倍加福硅片检测过程

P+F倍加福硅片检测过程

自“一带一路”倡议提出以来，中国致力于发展绿色丝绸之路，加强与沿线国家的合作，促进共同发展。光伏也成为了“一带一路”上类似高铁、核电等优势产业走出去的一部分，在沿线国家及区域的可再米6体育源应用上也起到了巨大推动作用。 太阳能以其无污染、可持续、总量大、分布广等优点颇受青睐。不止是建筑用，从光伏与农业的结合到3C产品，太阳能的利用已深入到日常生活的方方面面，而保障太阳能的完美应用，光伏材料——硅片是源头。一方面，硅片的内部缺陷和杂质会直接影响电池的效率和稳定性，另一方面，硅片的外观缺陷和表面质量对电池的制造和外观也有直接的影响。 从硅矿石的提炼到硅片的生产以及电池片的加工运输过程，如何实现并确保硅片的完整性？检测设备如何精准、高效地测出坏损？

加快检测过程的响应时间倍加福扁平型光电R2F/R3F具有Powerbeam清晰红光和Durabeam激光两种可选光源，红光漫反射0.5ms和激光漫反射0.25ms的快速响应时间大大提高了设备的运行速率,保证了客户的高产能需求。稳定检测硅片硅片的检测从光伏产业上游贯穿到中游，在各种硅片自动化设备中都显得非常重要，尤其是硅片经化学处理（如清洗、扩散、蚀刻等）后其反射率会有较大的改变。倍加福扁平式光电R2F/R3F具有极佳的背景抑制功能，在检测过程中几乎不受硅片的反射率影响，保证了硅片检测的可靠性。提高定位精度新型激光技术DuraBeam Laser也使得R2F/R3F成为市场上为扁平的激光产品。DuraBeam激光是充分结合了LED光源和激光传感器的优点，具有更长的使用寿命。与传统激光相比，DuraBeam激光光斑小而且呈现圆形，这对于硅片的定位检测来说具有两大优势：一，对传感器安装方位无要求；二，小光点提高了定位的精度要求。

R2R3系列产品完善，为多样化的应用需求提供完美的解决方案创新的DuraBeam激光技术，提高产品的耐用性，适合用在较宽的温度范围背景抑制型漫反射传感器，能可靠地检测目标物，屏蔽背景反射板型传感器，通过降低接线成本，高性价比，可有效替换对射型产品防静电耐刮擦镜片，保证了产品的耐用性，并不受偶尔碰撞的影响，防止灰尘吸附。

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